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진공장비 - PVD

Evaporator System

가장 고적적인 박막 증착 방법이며 저항 가열이나 전자빔 가열을 이용하여 고 융점 물질을 증착 시킬 수가 있다. 대면적 증착이 용이하고 높은 증착 속도를 얻을 수 있는 장점을 가지고 있고 박막 증착의 대량 생산에 적합한 방법이다. E-beam evaporator는 기존 Themal Boat를 이용한 방법을 대신해서 증착 물질을 전자선 증발을 이용하여 증발 시키는 방법이 사용되고 있습니다. 이것은 전자빔이 갖는 운동에너지가 국부적으로 3,000℃가 넘는 높은 열을 낼 수 있어 증발 압력이 낮은 물질도 Thermal Boat를 이용한 열 증착법에 비해 상대적으로 쉽게 증발할 수 있는 특징을 가지고 있다.

Detail

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  • E-beam evaporator system is designed for coating of lift-off, planetary, satellite substrate.
    Evaporation system for the deposition of metal and oxide on a substrate.

    Specification E-beam gun :
    Single crucible and multi-crucible e-beam gun with power supplies
    of 6, 10,15 kW power
    E-beam angle : 180° or 270°
    Sample size : 4 inch single ~ 1600mm dome
    Substrate type :
    Single stage, lift-off dome, planetary dome, satellite dome
    Base pressure : ≤ 1 x 10-7 torr
    Software interfaces : HMI programing base GUI software
    Application Power Device
    LED, LD and high-speed devices
    Other general electronic devices
    Material reserch & development