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  • Ion Beam Sputtering System

"㈜인포비온"은

인류의 미래를 새롭게 창조해 나아갈 장비, 첨단소재 업체입니다

진공장비 - PVD

Ion Beam Sputtering System

IBSD(Ion Beam Sputtering Deposition)은 이온빔을 타겟에 충돌시킴으로써 Sputtering되는 입자를 기판에 증착시키는 방법이다. 고품질의 박막 제조에 사용되는 방법으로 저온 공정이며 고진공에서 증착이 가능하므로 Ar가스의 박막 내부 오염을 배제할 수 있고, 이온빔 에너지와 이온빔 밀도의 독립적인 조절에 의한 우수한 재현성 및 신뢰성, 기판과 박막의 우수한 접착력의 특성을 띄게 된다. IBAD(Ion Beam Assisted Deposition)은 금속을 증착시키면서 동시에 에너지를 가진 이온을 기판 표면에 조사함으로써 원하는 조성을 갖는 박막을 성장시키는 방법이다. 화학 반응을 촉진시키고 shallow implantation에 의한 접착력이 우수한 계면, dense한 fillm, self cleaning, 이온량 및 에너지 조절에 의한 정확한 조성 제어, 저온 공정 (고분자 기판 사용 가능), 독립적인 에너지원의 의한 우수한 재현성능이 가능하여 gas sensor 용 Sio2 박막의 합성, 투명 전극용 ITO/Polymer 기판의 제작, 전자 소지용 AIN, TIN 박막의 합성 등에 쓰인다.

Detail

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  • IBS system is designed for homogeneous coating of 300 mm x 4ea substrates, such as wafers. Typical applications of the system are multilayer films. Ion bombardment is possible to control film characteristics or pre-clean the substrate. IBS system is equipped with ion beam sputter source and assistant ion beam source.

    Specification Substrate diameter : 300mm x 4ea
    Ion beam source :
    - Sputter source : INFO 150G model
    - Assistant source : INFO 150G or INFO 250G
    Neutralizer : RF type neutralizer (filament-less type)
    Typical deposition rate : SiO2 3Å/min, Ta2Ox 4Å/min
    Uniformity : ≤ 1.5%
    Base pressure: ≤ 2 x 10-7 torr
    OMS (Optical Monitoring System) : optional part
    Software interfaces : HMI programing base GUI software
    Application - Magnetic material multilayer films deposition
    - Optical multilayers deposition
    - Dielectric and metal layer deposition
    - Simply ion beam cleaning